CVD真空鍍膜原理
在真空條件下，以120-150℃將固態粉末狀的對二甲苯的二聚物加熱氣化，以650-700℃將氣態的對二甲苯的聚物裂解為對二甲苯的活性單，氣態活性單體在室溫下沉積并聚合成聚對二甲苯的薄膜，此沉積方式為CVD化學氣相沉積。如圖所示：
parylene涂層與其它涂層
液體涂層沉膜工藝液體涂層材料常見的有聚氨酯、環氧樹脂、UV膠、有機硅、丙烯酸類。這些液體涂層以噴涂或者人工刷的方式在工件的表面形成一層保護層，在此過程中容易使細小的孔隙堵塞、產生氣泡、厚度較厚、厚度不均勻等情況的出現，從而不能更好的達到三防的效果。派瑞林化學氣相沉積工藝(CVD)派瑞林涂層屬于CVD的沉積方式，在真空狀態下，由活性小分子在基材表面“生長”出敷形的聚合物薄膜涂層,它能涂敷到各種形狀的表面,包括尖銳的棱邊，細縫，號稱“無孔不入”的深入裂縫里和內表面。涂層厚度均勻、同形、致密無針孔、透明無應力、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性，從而使被涂敷的產品更有效的防潮、防霉（零級）、防腐、防鹽霧。